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Zhang Q.,Jin Q.,Mertens A.,Rainer C.,Huber R.,Fessler J.,Hernandez-Sosa G.,Lemmer U.
2022 / Advanced Materials
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본 연구는 고가이고 측면 패턴 형성이 어려운 기존의 물리적/화학적 증착 공정 대신 잉크젯 프린팅 기술을 이용하여 브래그 거울을 제작하는 방법을 보고합니다. 잉크젯 프린팅 파라미터 조정을 통해 광자 밴드갭을 제어하여 10개의 이중층 구조에서 99%의 초고반사율을 달성했으며, 브래그 거울의 중심 파장을 가시광선에서 근적외선 영역으로 조절했습니다.
Fiber Bragg gratings
X-ray optics : high-energy-resolution applications
Diffraction X-ray optics
Microoptics technology
X-Ray diffraction : a practical approach
Inkjet technology for digital fabrication
Nonlinear photonic crystals
Bulk metallic glasses : an overview
Fundamentals of inkjet printing : the science of inkjet and droplets
Fundamentals of inkjet printing : the science of inkjet and droplets
Infrared optical materials and their antireflection coatings
Fundamentals of optical waveguides
Wavelength filters in fibre optics
Handbook of inorganic electrochromic materials
Holographic imaging
The technique of special effects cinematography
Handbook of nanofabrication
Microcavities and photonic bandgaps : physics and applications
Handbook of optical engineering
Multiple diffraction of x-rays in crystals
Journal of Low Temperature Physics
Tollet, T.; Rodriguez, L.; Revéret, V.; Poglitsch, A.; Dussopt, L.; Aliane, A.; Delisle, C.; Goudon, V.; Lasfargues, G.Nanophotonics
Pruszyńska-Karbownik E.,Jandura D.,Dems M.,Zinkiewicz Ł.,Broda A.,Gȩbski M.,Muszalski J.,Pudiš D.,Suffczyński J.,Czyszanowski T.ACS Nano
Passoni, L.; Criante, L.; Fumagalli, F.; Scotognella, F.; Lanzani, G.; Di Fonzo, F.Journal of Lightwave Technology
Paul Roth; Philip St. J. Russell; Gordon K. L. Wong; Sebastien Loranger; Yang Chen; Michael H. FroszJournal of Lightwave Technology
Loranger S.,Chen Y.,Roth P.,Frosz M.H.,Wong G.K.L.,St. J. Russell P.한국광학회지
김정회, 이행수, 김남, 전석희The Review of scientific instruments
Störmer M; Gabrisch H; Horstmann C; Heidorn U; Hertlein F; Wiesmann J; Siewert F; Rack ALaser Physics Letters
Goldenberg, L.M.; Lisinetskii, V.; Schrader, S.Optics Letters
Talbot L.,Richter D.,Heck M.,Nolte S.,Bernier M.Physics Procedia
Schenk, H.; Grahmann, J.; Sandner, T.; Wagner, M.; Dauderstädt, U.; Schmidt, J.-U.Journal of Physics: Conference Series
Tetyana Nychyporuk; Mustapha Lemiti; O S Kyslovets; I.I. Ivanov; Valeriy A. SkryshevskyACS macro letters
Liliana Ruiz Diaz; Robert A. Norwood; Youngkeol Kim; Laura E. Anderson; Nicholas P. Lyons; Tristan S. Kleine; Nicholas G. Pavlopolous; Richard S. Glass; Katrina M. Konopka; Eui Tae Kim; Kookheon Char; Jeffrey PyunOptics Letters
Buchnev O.,Belosludtsev A.,Fedotov V.A.ACS Macro Letters
Kleine, Tristan S.; Diaz, Liliana Ruiz; Konopka, Katrina M.; Anderson, Laura E.; Pavlopolous, Nicholas G.; Lyons, Nicholas P.; Kim, Eui Tae; Kim, Youngkeol; Glass, Richard S.; Char, Kookheon; Norwood, Robert A.; Pyun, JeffreyApplied Materials Today
Pogosian T.,Statsenko T.,Mukhtudinova A.,Masharin M.,Bugakova D.,Sergienko A.,Makarov S.,Vinogradov A.Journal of Microelectromechanical Systems, Microelectromechanical Systems, Journal of, J. Microelectromech. Syst.
Tripathi, D.K.; Mao, H.; Silva, K.K.M.B.D.; Bumgarner, J.W.; Martyniuk, M.; Dell, J.M.; Faraone, L.Current Optics and Photonics
김준휘, 손남선, 김경조, 오민철Journal of Optics (United Kingdom)
Tsai, Y.-Y.; Chen, T.-W.Results in Physics
Przhiialkovskii D.V.,Butov O.V.Journal of Applied Physics
Janssens, S.; Breukers, R.; Swanson, A.; Raymond, S.전선 / 학사
오목판법의 기본 원리와 특성의 이해를 시작으로 다양한 오목판 기법의 제판 및 인쇄 과정을 실습하고 작품을 제작한다. 동판화에 초점을 두고 직접음각기법(drypoint, engraving)으로부터 부식을 통해 판에 이미지를 새기는 선 부식기법(line etching), 면 부식기법(aquatint)을 중심으로 여러 기법을 익힌다. 수업은 참고 작품의 소개 및 강의, 시연과 실습, 개인별 작품 제작 및 검토로 구성된다.전선 / 대학원
유기발광다이오드 (OLED) 디스플레이, 유기태양전지, 유기박막트랜지스터 (OTFT) 등의 넓은 응용 분야를 가지는 새로운 반도체 재료인 유기반도체의 기본 개념 및 이론에 대해 소개한다. 유기반도체의 전자 에너지 밴드 구조, 계면 특성, 전하 이동도 및 재결합 등의 전기적 특성, 광 흡수 및 방출 등의 광학적 특성, 엑시톤 동역학 등에 대해 강의한다. 그리고 유기전자소자의 주요 원리에 대해 설명한다.전선 / 학사
실크스크린과 스텐실 등 공판화의 원리와 특성의 이해하고 판을 만들어 찍는 과정 전반을 익힌다. 실크스크린 기법 이용되는 다양한 사례를 살펴보고 단색과 다색, 유성과 수성 실크스크린의 여러 기법을 습득하여 작품을 제작한다. 개괄적인 판화사 강의를 통해 판을 이용하여 복수의 작품을 생산하는 판화 기법의 고유한 특성을 이해한다. 수업은 참고 작품의 소개 및 강의, 시연과 실습, 개인별 작품 제작 및 검토로 구성된다.전선 / 대학원
본 강의에서는 기본적인 플라즈마의 성질, 하전입자의 운동, 전자와 외부 전장의 상호 작용, 하전입자의 생성 과 소멸, Kinetic equation for electron, 인가 주파수에 따른 gas방전의 형성, equilibrium and stability 이론을 소개 하고자 한다. 또한 용량성 결합된 고주파 플라즈마에 대해서도 다루어진다.전선 / 대학원
자기공명영상(Magnetic Resonance Imaging (MRI))의 물리학적 기본 원리를 학습하고 이를 바탕으로 현재까지 개발된 다양한 자기공명영상 contrast와 관련 펄스 시퀀스 (pulse sequence)의 이해를 통해 궁극적으로 여러 질병들의 발병기전 연구 또는 진단 등 기초과학 및 임상에 응용 가능한 자기공명영상 기술개발에 필요한 기초 지식을 습득한다.전선 / 대학원
푸리에 광학, 회절, 공간 광 변조기, 스펙트럼 분석, 공간 필터, 음향광학, 헤테로다인 스펙트럼 분석, 공간적분 코릴레이터, 시간적분 시스템, 광 컴퓨팅, 광변환, 홀로그램, 광민감 효과, 지연신호처리.전선 / 학사
연구실에서의 연구참여 활동을 통하여 전공 지식을 심화 학습한다. 각자가 원하는 연구에 참여하며 그 연구에 대한 직접적인 경험을 갖는다.전선 / 대학원
자기공명분광(Magnetic Resonance Spectroscopy (MRS))을 활용하여 여러 질병들의 발병기전 및 진화에 대한 기초연구를 수행할 수 있는 지식(이론과 실습)을 습득함. 이론은, 다양한 신경 정신질환과 관련이 있는 것으로 알려져 있는 myo-inositol, gamma-aminobutylic acid (GABA), glutamate 등의 측정법을 포함함. 실습은, 소프트웨어를 통해 쥐(rat)의 두뇌 스펙트럼에서 뇌 대사체들을 정량분석하는 과정을 포함함.전선 / 대학원
광학기기, 자기기록장치, 압전소자 등에서 널리 쓰이는 박막재료 및 소자의 원리와 설계이론을 강의한다. 이를 위하여 박막의 제조방법과 전기적, 광학적, 기계적 특성의 측정 및 평가방법을 이해한다. 광 Filter, 광 메모리, Thin Film을 이용한 Passive 및 Active Device, Magnetic Thin Film Device, Thermal device 등 소자의 특성 및 설계와 표면 및 계면공학에의 응용을 강의한다.전선 / 대학원
반도체, MEMS와 같은 다양한 미세소자에서의 결정입 특성, 집합조직, 기계적 성질, 신뢰성 등의 문제에 대해 반도체회로(ULSI)에 사용되고 있는 알루미늄과 구리 배선을 중심으로 살펴본다.전선 / 대학원
배위화합물과 유기금속 화합물의 구조, 결합, 분광학적 특성, 자기적 특성, 반응성을 설명할 수 있는 이론들을 소개한다. 또한 이 화합물들을 확인하는데 필요한 분광학적 기술(적외선, 라만, 가시광선, 자외선, 핵자기 공명, 전자스핀 공명), 군론 및 군론을 이용한 분자 궤도 이론, 진동 스펙트럼, 리간드장 이론을 다룬다.전선 / 대학원
광학 이미징의 물리적인 해상도 한계를 뛰어넘어 100㎚ 이하의 초해상도를 달성할 수 있는 형광 이미징 기술을 소개한다. 본 과목에서는 2014년 노벨 화학상이 부여된 여러 초해상도 이미징 기술 중에서 해상도가 20㎚ 수준으로 가장 우수한 단분자 국소화 현미경법을 상세히 다룬다. 이미징 원리, 현미경 구성, 국소화 전략, 영상 복원, 기술 개발 동향, 바이오 응용연구 사례 등을 살펴봄으로써 초해상도 현미경 기술을 완전하게 이해하고 연구에 활용하는 것을 목표로 한다.전선 / 학사
종이 및 판지의 부가가치 증대를 위한 도공, 함침, 캘린더링 등 표면 및 특수 가공기술에 대한 소개, 각종 특수지의 제조 및 응용 기술, 인쇄 및 이미징 기술의 발전 및 지류와 이미징 기술의 상호관련성을 다룸. 제지도공공정에 사용되는 각종 안료, 바인더 및 첨가제의 특성과 이의 활용에 따른 도공층의 구조를 배우고, 블레이드 코팅, 에어나이프 코팅, 롤 코팅, 로드 코팅 및 최신 코팅기술의 발전 현황, 도공공정 및 운전성과 관련된 도공액의 유변특성을 배운다. 또 도공지의 건조 및 슈퍼캘린더링을 통한 광택도 개선기술 및 감열지와 감압지 등 특수지의 제조기법을 익힘. 또 옵셋 인쇄와 잉크젯 인쇄 등 각종 인쇄에 사용되는 원료의 특성과 공정 및 종이와의 상호 관련성을 강의한다.전선 / 대학원
생물학 및 의학 연구나 산업 측정 분야에서 핵심 도구인 광학 현미경법의 상세한 개요를 소개한다. 광학 현미경의 조명/결상 원리 및 성능, 광학/기계 핵심 요소품, 그리고 명시야, 위상, 편광, 형광, 공초점, 비선형, 광시트(light-sheet), 초고분해능 현미경(SIM, STED, PALM/STORM)을 포함한 다양한 종류의 현대 광학 현미경법을 다룬다. 본 교과목은 광학 현미경 이용자 또는 개발자를 대상으로 하며, 학생들이 현미경 지식을 자신의 연구나 차후에 산업 현장에서 활용하는 데 도움을 주는 것을 목표로 한다전선 / 대학원
이 강의는 전통적인 고정성 수복 방법에서 기술적으로 digital science 등과 접목된 새로운 임상 술식 및 이에 따른 기존 원칙의 변화 등에 대해 살펴본다.전선 / 대학원
CCD Imaging, 측광, 적외선 관측, 자료처리, 화상처리, 분광 등의 광학 관측과 자료 처리를 학습하고, 망원경, 관측 기기 및 컴퓨터를 이용하여 광학 관측을 실습한다.전선 / 학사
사고를 통한 새로운 관점을 드로잉으로 표현하는 수업으로, 산업디자인의 분야인 제품 및 공간디자인에서 디자인의 개념 및 구조를 보여줄 수 있는 평면, 입면, 단면, 투시 등에 대한 드로잉 학습을 다양한 매체를 통하여 진행한다. 또한, 디자이너가 드로잉을 통해 전달하려는 본인의 개념 또는 디자인 기능 및 사양에 대하여 말하기와 글쓰기를 통해 명확히 전달할 수 있는 능력과 수사학적으로 소통할 수 있는 능력을 함양한다. 이와 같은 학습을 통해, 디자이너의 아이디어와 컨셉의 자유로운 표현, 입체적 디자인을 드로잉과 글을 통해 표현하기 위한 기초적 능력을 함양한다.전선 / 대학원
반도체 노광기술은 Moore의 법칙으로 대변되는 반도체 소자 미세화를 주도하였으며, 현재 반도체 생산 비용의 과반을 차지한다. 최근 노광기술은 DUV 광원 사용을 넘어 파장 13.5nm 광원을 사용하는 EUV lithography로 발전하여 반도체 양산에 도입되었다. 노광기술은 광학뿐만 아니라 광파와 재료의 다양한 상호작용에 대한 이해를 필요로 한다. 본 강의에서는 관련된 광학의 기초를 제공하고 반도체 기술 개발 현장에서의 경험을 접목하여 반도체 노광기술 전반을 설명하고자 한다. 또한 EUV lithography 기술의 문제와 그 해결을 위한 최신 기술을 소개하고자 한다.전선 / 대학원
회화와 디지털매체와의 접목을 통해 새로운 이미지 생산방식과 의미 창출방식으로써의 잠재적 가능성을 광범위하게 모색한다. 판화와 디지털미디어의 특성 및 기술적 과정에 대한 전반적인 이해를 바탕으로 다양하고 실험적인 작품을 제작한다. 최종 출력물 혹은 시각적 결과물에 대해서는 장르 및 차원(dimension)의 제한을 두지 않는다.전선 / 학사
광학현미경, 전자현미경, 주사탐침현미경을 포함하여 미세구조의 관찰을 위한 기기 및 장비의 측정 원리, 기기구조 및 활용에 대하여 소개함. 현미경의 역사, 기기 분해능, 미세구조 분석론, 기기별 구성 특성, 기기별 분석 특성 등을 설명함. 주사탐침현미경의 포괄적인 이해와 원자힘현미경을 이용하여 폴리펩타이드, 탄수화물계고분자, 합성고분자, 바이오복합재료, 나노바이오소재 등 친환경재료의 미세구조와 표면특성을 관찰하기 위한 방법론을 제시함. 이론과 함께 장비 구동을 병행함으로써 첨단 미세구조 관찰 장비에 대하여 이해함.