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Acid-Base Reaction-Assisted Quantum Dot Patterning via Ligand Engineering and Photolithography
저자
Bae J.H.,Kim S.,Ahn J.,Shin C.,Jung B.K.,Lee Y.M.,Hong Y.K.,Kim W.,Ha D.H.,Ng T.N.,Kim J.,Oh S.J.
학술지명
ACS Applied Materials and Interfaces
출판/발행연도
2022
주제
요약
본 연구는 리간드 엔지니어링 및 광조각 기술을 활용하여 양자점 패턴화의 새로운 전략을 제시합니다. 산-염기 반응을 이용한 이 방법은 양자점의 특성을 저하시키지 않고 고해상도 패턴을 구현하며, 5μm까지의 패턴 형성이 가능함을 입증했습니다. 이를 통해 고집적 양자점 기반 광전 소자 제작에 대한 정밀한 제어를 제공합니다.
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