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급속열처리 기술을 이용한 rutile 구조를 가지는 TiO2-X/TiO2 기반의 저전압 저항 스위칭 메모리에 관한 연구
저자
허관준, 김성진, 엄주송
학술지명
대한금속·재료학회지
출판/발행연도
2015
주제
요약
본 연구는 Al/TiO2-X/TiO2/Al 구조의 나노 크기 저항 RAM 소자에서 저전압 구동에 의한 저항 스위칭 특성을 조사했습니다. 급속열처리(600℃)를 통해 TiO2-X 층에 산소 공공을 유도하여 루틸 상으로의 상전이를 유도했으며, 이는 전자 트랩 역할을 하여 메모리 동작을 가능하게 했습니다.
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