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본 연구는 웨이퍼 레벨 패키지 공정 중 발생하는 다이 시프트 현상을 최소화하기 위한 공정 개발을 목표로 한다. 몰딩 압력과 열 영향으로 인해 발생하는 다이 시프트 및 웨이퍼 휨은 후속 공정의 배선 위치 정밀도에 영향을 미치므로, 이를 측정하기 위한 비전 검사 장비를 구축하였다.
반도체 패키지 =
웨이퍼레벨 패키징
(쉽게 배우는) 반도체 프로세스
Electronics reliability and measurement technology : nondestructive evaluation
3차원 반도체
Semiconductor advanced packaging
Semiconductor advanced packaging
Silicon VLSI technology : fundamentals, practice and modeling
반도체장비의 이해
CMOS 디지털 집적회로 설계 : 기본 이론부터 실습까지
반도체장비의 이해
Ultraclean surface processing of silicon wafers : secrets of VLSI manufacturing
Wafer-level chip-scale packaging : analog and power semiconductor applications
차세대 반도체
Techniques and challenges for 300 mm silicon : processing, characterization, modelling and equipment : proceedings of Symposium F on Techniques and Challenges for 300 mm Silicon of the E-MRS 1998 Spring Conference, Strasbourg, France, 16-19 June 1998
미래의 컴퓨터
Les ordinateurs
Fan-out wafer-level packaging
Handbook of quality integrated circuit manufacturing
한국산학기술학회논문지
이재향; 이혜진; 박성준Powder Diffraction
Brian K. Tanner; Patrick J. McNally; Andreas N. DanilewskyIEEE Transactions on Components, Packaging and Manufacturing Technology, Components, Packaging and Manufacturing Technology, IEEE Transactions on, IEEE Trans. Compon., Packag. Manufact. Technol.
Bu, L.; Ho, S.; Velez, S. D.; Chai, T.; Zhang, X.IEEE Transactions on Device and Materials Reliability, Device and Materials Reliability, IEEE Transactions on, IEEE Trans. Device Mater. Relib.
Cheng, H.; Chung, C.; Chen, W.IEEE Spectrum, Spectrum, IEEE, IEEE Spectr.
Courtland, R.IEEE Transactions on Components, Packaging and Manufacturing Technology, Components, Packaging and Manufacturing Technology, IEEE Transactions on, IEEE Trans. Compon., Packag. Manufact. Technol.
Ling, H.S.; Lin, B.; Choong, C.S.; Velez, S.D.; Chong, C.T.; Zhang, X.Powder Diffraction
Tanner, B.K.; McNally, P.J.; Danilewsky, A.N.센서학회지
김근회, 나예은, 김경민, 김태현Microsystem Technologies: Micro- and NanosystemsInformation Storage and Processing Systems
Su, Te-Jen; Chen, Yi-Feng; Cheng, Jui-Chuan; Chiu, Chien-LiangIEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
Mohd Syahrin Amri; Ghazali Omar; Mohd Syafiq Mispan; Fuaida Harun; M. N. B. Othman; N. A. Ngatiman; Masrullizam Mat IbrahimRussian Microelectronics
Evstafyev, S. S.; Solovyov, I. A.; Kochergin, M. D.; Vertyanov, D. V.Components, Packaging, and Manufacturing Technology, IEEE Transactions on
Xin, Xiao; Gorji, Nima E.; Tseng, Ming-LangECS Meeting Abstracts
Subramanian S Iyer한국생산제조학회지
고현준, 임승용, 김희태, 김종형, 김옥래마이크로전자 및 패키징학회지
김준모, 구창연, 김택수한국과학예술융합학회
김종형; 고현준; 임승용IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on, IEEE Trans. Semicond. Manufact.
Amri, M.S.; Omar, G.; Mispan, M.S.; Harun, F.; Othman, M.N.B.; Ngatiman, N.A.; Ibrahim, M.M.대한금속·재료학회지
이성민대한금속·재료학회지
이성민IEEE Transactions on Components, Packaging and Manufacturing Technology
Guangqi Ouyang; Amir Hanna; Samatha Benedict; Goutham Ezhilarasu; Arsalan Alam; Randall W. Irwin; Subramanian S. Iyer전선 / 학사
차세대 반도체 분야의 기초가 되는 과목으로 반도체 공정의 기본 개념을 파악하고 소자 및 회로 제작 공정을 이해할 수 있는 기본 지식을 갖추도록 한다. 또한, 대표적인 단위 공정의 기본 원리 이해를 통하여, 기초 소자 제작을 위한 공정 설계를 할 수 있도록 한다. 수식을 최대한 배제하고 개념 위주의 수업을 실시한다.전선 / 학사
반도체공정을 포함한 많은 산업 공정에서 필요한 얇은 액막의 형성 및 제어는 기계, 전기전자, 재료, 화학공학 등 다양한 분야의 지식이 모두 필요한 기술이지만, 특히 웨이퍼위에 감광액(포토 레지스트)을 도포하여 얇은 액막을 형성하는 것을 포함하는 일련의 과정은 유체역학적 분석 및 제어가 매우 중요하다. 본 강의에서는 이러한 웨이퍼 공정을 (i) 높은 점도를 가지는 액체의 관내 유동(동전기학 현상 포함), (ii) 노즐에서 나오는 제트유동, (iii) 수평면위에 수직으로 부딪히는 제트유동, (iv) 회전하는 평면위의 얇은 액막 거동으로 구분하고 각각의 유체역학적 이론 및 실용적인 이슈에 대한 학습을 한다. 또한 반도체 생산과정에서 중요한 이슈가 되는 미세입자의 거동에 대한 기초적인 내용도 학습한다.전선 / 대학원
반도체 단위 공정인 산화 공정, 확산 공정, 화학기상증착(CVD) 공정, 사진 식각 공정, 이온 주입공정, 금속 공정 및 소자측정 공정에 대하여 강의하고, 실리콘 웨이퍼를 이용하여 실제로 이 모든 공정을 수행함으로써, 이론과 실습의 병행을 통하여 반도체 공정에 대한 이해를 높이며 실제로 공정을 할 수 있는 능력을 배양한다. 이상의 개별공정들을 적절히 조합하여 하나의 mask를 사용한 n-channel MOSFET을 제작하여 공정 집적과 측정 실습을 진행한다.전선 / 대학원
반도체 단위 공정인 산화 공정, 확산 공정, 화학기상증착(CVD) 공정, 사진 식각 공정, 이온 주입공정, 금속 공정 및 소자측정 공정에 대하여 강의하고, 실리콘 웨이퍼를 이용하여 실제로 이 모든 공정을 수행함으로써, 이론과 실습의 병행을 통하여 반도체 공정에 대한 이해를 높이며 실제로 공정을 할 수 있는 능력을 배양한다. 이상의 개별공정들을 적절히 조합하여 하나의 mask를 사용한 n-channel MOSFET을 제작하여 공정 집적과 측정 실습을 진행한다.전선 / 학사
우리나라는 세계제일의 메모리반도체 생산국가이며 차츰 비메모리 반도체로 외연을 넓히고 있다. 반도체 산업은 고부가가치 장치산업으로서 노광공정을 중심으로 하여 웨이퍼 연마나 산화와 같은 전공정과 세정, 에칭, 확산, 이온주입 및 박막증착과 같은 후공정 장비들로 생산시스템이 구성된다. 이 강의에서는 반도체 생산에 사용되는 다양한 공정장비들에 대하여 개괄적으로 살펴보며, 이를 통해서 기계, 전자, 재료, 화공 등 다분야 전공자들의 반도체 분야 진로탐색을 지원하는 것을 목표로 삼는다.전선 / 대학원
직접회로 전반에 관한 공정에 대한 과목으로서 화학적인 방법과 물리적인 방법으로 세분되어 기본원리에 의한 공정 분석 및 디자인을 다룬다. 모래로부터 시작해서 완성된 직접회로에 이르기까지의 흐름을 따르나 화학증착 및 플라즈마 공정에 중점을 두며 직접회로 공정에 특유한 도핑(doping) 및 lithography도 포함된다. 공정방법에 대한 자세한 기술보다는 각 공정에서의 기본 원리를 다루는 것이 특징이다.전선 / 대학원
컴퓨터, 모바일기기, 데이터서버, AI 시스템 등 다양한 컴퓨팅 기기들의 성능은 그 시스템을 구성하는 각 칩의 연산 속도뿐만 아니라, 칩과 칩 사이에서 데이터를 주고 받는 통신속도 및 지연시간에 크게 영향을 받는다. 고속인터페이스 회로기술은 바로 칩 간의 데이터를 빠르게 주고받기 위한 회로 및 시스템 기술을 통칭하며, 전송선로 이론에 기반한 채널의 설계, 디지털 통신을 활용한 고속 송수신기 및 등화회로 설계, 그리고 정밀한 타이밍 생성 및 복원을 위한 phase/delay-locked loop 설계의 3요소로 구성되어 있다. 특히, 최근에는 디지털 시스템 설계의 효율성을 활용할 수 있는 ADC 기반의 송수신기, 칩을 구성하는 새로운 방식인 칩렛(chiplet)에 필요한 고밀도 저전력의 die-to-die 인터페이스, 그리고 칩상에 집적되는 광소자를 이용한 광통신 회로인 실리콘 포토닉스 등이 새로운 동향으로 떠오르고 있다. 본 교과목은 다양하게 활용되는 고속인터페이스 설계에 필요한 회로뿐만 아니라, 시스템 설계에 필요한 채널 이론, 통신 이론, 신호처리, 피드백 제어이론 등의 인접분야를 함께 다루고, 이들에 대한 통찰력 높은 이해를 통해 고성능, 저전력, 고밀도의 고속인터페이스를 구성할 수 있는 설계역량을 배양한다.전선 / 대학원
유기발광다이오드 (OLED) 디스플레이, 유기태양전지, 유기박막트랜지스터 (OTFT) 등의 넓은 응용 분야를 가지는 새로운 반도체 재료인 유기반도체의 기본 개념 및 이론에 대해 소개한다. 유기반도체의 전자 에너지 밴드 구조, 계면 특성, 전하 이동도 및 재결합 등의 전기적 특성, 광 흡수 및 방출 등의 광학적 특성, 엑시톤 동역학 등에 대해 강의한다. 그리고 유기전자소자의 주요 원리에 대해 설명한다.전선 / 대학원
반도체, MEMS와 같은 다양한 미세소자에서의 결정입 특성, 집합조직, 기계적 성질, 신뢰성 등의 문제에 대해 반도체회로(ULSI)에 사용되고 있는 알루미늄과 구리 배선을 중심으로 살펴본다.전선 / 학사
아크, 글로우, 코로나 방전을 통해서 얻을 수 있는 저온 플라즈마의 산업적 응용을 위한 공정 기술에 관련된 기초 물리, 화학 및 공학을 학습한다. 각종 저온 플라즈마의 특성과 발생방법, 플라즈마 화학반응, 전원 종류와 공정 방법에 따른 다양한 플라즈마 열원과 반응로에 대해 알아본다. 이어 열플라즈마를 이용한 용사, 합성, 열 분해용융, TPCVD, 용접절단 등의 산업적 응용과 코로나 방전을 이용한 집진, 유해기체 정화 등과, 글로우 플라즈마를 이용한 PVD, CVD, 중합법, 식각 등으로 각종 첨단 소재생산 및 처리와 환경산업에의 적용 분야의 소개와 이를 바탕으로 한 발생 장치의 설계학습을 병행한다..전선 / 대학원
최근 반도체 산업에서 발생하는 여러 문제 중에서 특히 재료에 관계되는 이슈들을 모아서 그 이해의 폭을 넓힌다. 특히 화학증착에 의한 박막, 나노와이어 및 각종 나노구조의 생성원리에 대하여 열역학, 속도론, 핵생성, 미세조직 등의 관점에서 논한다.전선 / 대학원
3D 프린터가 오픈소스 덕분에 책상 위에서 곧바로 시제품을 뽑아내고, 오픈소스 PCB 설계툴과 온라인 제작 서비스가 누구나 손쉽게 회로를 만들 수 있는 시대를 열었듯이, 이제는 오픈소스 반도체 설계도구와 국내 마이칩제작 서비스를 통해 직접 반도체를 설계하고 실리콘으로 제작해 볼 수 있는 길이 열렸다. 본 과목은 C/C++ 기반 소프트웨어 과목을 이수했거나 이를 다룰 수 있는 학생 가운데 자신의 알고리즘을 ‘하드웨어 가속기’ 혹은 ‘맞춤형 디지털 반도체’로 구현해 보고 싶은 이들을 대상으로 한다. 수강생은 팀을 구성해 아이디어를 고수준 설계로 표현하고, 오픈소스 설계툴의 플로우를 거쳐 레이아웃과 사인오프를 완료한 뒤 반도체 칩 공동제작 방식으로 실제 칩을 제작하며, 완제품 수령 후 실험실에서 계측, 테스트를 진행하는 전 과정을 직접 체험한다. 한 학기가 끝나면 여러분은 코드와 상상을 실리콘으로 바꾸어 본 구체적 경험과 함께, 아이디어만 있으면 누구나 디지털 칩을 설계, 검증, 제조할 수 있다는 실리콘 메이커 시대의 가능성을 몸소 확인하게 된다.전선 / 대학원
의학 및 산업 분야 전반에 걸쳐 다양하게 활용되고 있는 방사성동위원소의 생산 방법 및 활용 범위에 대해서 소개하고, 연구용 원자로 및 사이클로트론, 입자가속기, 핵파쇄 중성자원 등 방사성동위원소 생산에 활용되고 있는 국내외의 다양한 방사선 발생장치들의 작동원리 및 운용현황에 대해서 소개한다. 반도체 및 우주 산업 등 방사성동위원소가 활용되고 있는 다양한 분야의 연구 동향에 대해서 탐색하고, 방사성동위원소 응용 기술의 저변 확대와 기술 개발 가능성 등에 대해서 논의한다.전선 / 학사
고전적인 Fourier 급수 및 Fourier 적분의 구체적인 응용을 다루고, 최근 여러 가지 공학에 응용되고 있는 이산 코사인 변환, 빠른 Fourier 변환, 웨이블렛과 다해상도 분석, 웨이블렛 변환과 Fourier 변환, 신호 및 영상처리, 역문제에의 응용 등을 공부한다.전선 / 대학원
의학 및 산업 분야 전반에 걸쳐 다양하게 활용되고 있는 방사성동위원소의 생산 방법 및 활용 범위에 대해서 소개하고, 연구용 원자로 및 사이클로트론, 입자가속기, 핵파쇄 중성자원 등 방사성동위원소 생산에 활용되고 있는 국내외의 다양한 방사선 발생장치들의 작동원리 및 운용현황에 대해서 소개한다. 반도체 및 우주 산업 등 방사성동위원소가 활용되고 있는 다양한 분야의 연구 동향에 대해서 탐색하고, 방사성동위원소 응용 기술의 저변 확대와 기술 개발 가능성 등에 대해서 논의한다.전선 / 대학원
이 강의는 발전된 반도체 소자를 이해하기 위한 반도체 물리를 강의한다. 높은 도핑 효과, 이종 접합에서의 밴드 라인업 이론 등을 소개한다. 이러한 물리이론을 바탕으로 MOSFET 소자와 바이폴러 소자의 물리, 모델링 그리고 특성에 대해서 강의한다. 이 소자들의 이상적이 아닌 특성과 스케이링 이론을 소개한다. 여기에는 MOSFET의 표면 양자화 효과와 이 효과가 끼치는 소자의 CV, 전달특성 등에 대해서 강의한다.전선 / 대학원
이 강의에서는 VLSI 설계 분야의 최근 연구 동향을 소개하고, 효율적인 설계를 위한 고급 설계 기법을 다룬다. 구체적으로 디지털 회로의 잡음, 배선, 저전력 설계 등의 주제를 다루며 각 활용 영역에서 사용되는 다양한 회로 구조를 소개한다.전선 / 학사
CMOS 반도체 소자 제작은 다양한 단위 공정으로 구성된다. 이온주입공정, 사진공정, CVD공정, 산화공정, 건식식각공정, 금속화공정 등의 CMOS 공정에 필요한 단위공정의 일부 혹은 전 과정을 실습함으로써, 강의를 통하여 습득한 지식을 검증하고 제작 과정에서 발생하는 문제점을 해결한다. 이 프로젝트에서는 반도체 소자의 개발 및 검증 이르는 적절한 모든 과정들을 수행하며, 프로젝트 진행 과정에 관하여 설명하는 결과 보고서 및 제작품의 특성을 설명하는 구두 발표를 포함한다.전선 / 학사
반도체를 제조하는 공정을 중심으로, 집적기술에 관련된 기초지식 습득 및 최근기법 등을 이해할 수 있도록 한다.전선 / 학사
본 교과목에서는 거의 한계에 다다른 CMOS 소자의 scaling 문제를 극복할 수 있는, 나노 기술을 응용한 새로운 소자 구조와 이들의 바이오 물질 등과의 상호작용에 대해 소개한다. 그리고 이러한 신소자들을 이해하고 연구하기 위한 기초적인 양자 및 소자 물리학, 그리고 이온전해질과 반도체 표면과의 관계에 대해 배운다. 전반부에서는 에너지 밴드, 유효질량, hole 등의 개념을 설명하기 위한 나노소자 물리의 기초를 다루고, 이를 토대로 다중 게이트 소자 같은 나노 FET 소자들의 최신 동향에 대해 소개한다. 후반부에서는 간단한 물리 및 나노소자 시뮬레이션 실습을 통해 학습한 양자 물리학에 대한 이해를 높이고, 직접 나노소자 및 전기-바이오 소자를 설계하고 그 특성을 분석해보는 기회를 갖는다.