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본 연구는 잉크젯 인쇄 기술을 이용하여 리튬 도핑된 인듐-아연-산화물 트랜지스터(IZO TFT)를 제작하고 전기적 특성을 향상시키는 것을 목표로 합니다. 200℃의 비교적 낮은 어닐링 온도에서도 잉크젯 인쇄를 통해 IZO TFT를 구현했으며, 최적화된 공정 조건에서 400℃에서 9.08 cm²/V s의 이동도, 0.62 V/dec의 문턱 기울기, 2.66 V의 문턱 전압, 2.83 × 10⁸의 온-오프 전류비를 달성했습니다.
Fundamentals of inkjet printing : the science of inkjet and droplets
Fundamentals of inkjet printing : the science of inkjet and droplets
Inkjet technology for digital fabrication
Transparent oxide electronics : from materials to devices
Design and development of radio frequency identification (RFID) and RFID-enabled sensors on flexible low cost substrates
Introduction to microelectronic fabrication
Physics and technology of crystalline oxide semiconductor CAAC-IGZO.
Solution processed metal oxide thin films for electronic applications
Amorphous oxide semiconductors : IGZO and related materials for display and memory
Semiconducting and metallic polymers
Inkjet-based micromanufacturing
Flexible flat panel displays
Solution synthesis of inorganic functional materials -- films, nanoparticles and nanocomposites : symposium held April 1-5, 2013, San Francisco, California, U.S.A.
Nanoimprint technology : nanotransfer for thermoplastic and photocurable polymer
Handbook of VLSI microlithography : principles, technology, and applications /
Rapid thermal processing : proceedings of Symposium I on Rapid Thermal Processing of the E-MRS 1998 Spring Conference, Strasbourg, France, 16-19 June 1998
Silicon VLSI technology : fundamentals, practice and modeling
Physics and technology of crystalline oxide semiconductor CAAC-IGZO.
Handbook of VLSI microlithography : principles, technology, and applications
Korean Journal of Metals and Materials
Woon-Seop Choi대한금속·재료학회지
최운섭Journal of the Korean Physical Society
Lee, J.S.; Choi, W.-S.Journal of the Korean Physical Society
이준석, 최운섭Journal of the Korean Physical Society
이준석; 최운섭Advanced Science
Chung, Seungjun; Cho, Kyungjune; Lee, TakheeACS Nano
Tang Y.,Huang C.H.,Nomura K.IEEE Electron Device Letters
Kim, Yong-Hoon; Kim, Kwang-Ho; Oh, Min Suk; Kim, Hyun Jae; Han, Jeong In; Han, Min-Koo; Park, Sung KyuElectronic Materials Letters
SeungJournal of the Korean Physical Society
김종웅, 최장우, SungSmall
Divya M.,Pradhan J.R.,Priyadarsini S.S.,Dasgupta S.Nano-Micro Letters
Liang K.,Li D.,Ren H.,Zhao M.,Wang H.,Ding M.,Xu G.,Zhao X.,Long S.,Zhu S.,Sheng P.,Li W.,Lin X.,Zhu B.ECS Meeting Abstracts
Shan Ming Hsu; Po-Tsun Liu; Po Yi KuoAdvanced Materials Interfaces
Nguyen C.K.,Mazumder A.,Mayes E.L.H.,Krishnamurthi V.,Zavabeti A.,Murdoch B.J.,Guo X.,Aukarasereenont P.,Dubey A.,Jannat A.,Wei X.,Truong V.K.,Bao L.,Roberts A.,McConville C.F.,Walia S.,Syed N.,Daeneke T.IEEE Electron Device Letters, Electron Device Letters, IEEE, IEEE Electron Device Lett.
Leppaniemi, J.; Eiroma, K.; Majumdar, H.S.; Alastalo, A.Flexible and Printed Electronics
Moreira, P.G.; Martins, R.; Carlos, E.; Branquinho, R.Journal of Materials Science: Full Set - Includes `Journal of Materials Science Letters'
Wang, Chao; Xu, Wenya; Zhao, Jianwen; Lin, Jian; Chen, Zheng; Cui, ZhengJournal of the Korean Physical Society
Ju-hyeon Park; Changjin Lee; Sung-Hoon Hong; Young Hun Kang; Ho-Gyeong Yun; In-Kyu You; Song Yun Cho; Yong Suk YangAdvanced Materials Technologies
Godard N.,Glinšek S.,Matavž A.,Bobnar V.,Defay E.Journal of the Korean Physical Society
양용석, 유인규, 홍성훈, Ju전선 / 학사
오목판법의 기본 원리와 특성의 이해를 시작으로 다양한 오목판 기법의 제판 및 인쇄 과정을 실습하고 작품을 제작한다. 동판화에 초점을 두고 직접음각기법(drypoint, engraving)으로부터 부식을 통해 판에 이미지를 새기는 선 부식기법(line etching), 면 부식기법(aquatint)을 중심으로 여러 기법을 익힌다. 수업은 참고 작품의 소개 및 강의, 시연과 실습, 개인별 작품 제작 및 검토로 구성된다.전선 / 대학원
유기발광다이오드 (OLED) 디스플레이, 유기태양전지, 유기박막트랜지스터 (OTFT) 등의 넓은 응용 분야를 가지는 새로운 반도체 재료인 유기반도체의 기본 개념 및 이론에 대해 소개한다. 유기반도체의 전자 에너지 밴드 구조, 계면 특성, 전하 이동도 및 재결합 등의 전기적 특성, 광 흡수 및 방출 등의 광학적 특성, 엑시톤 동역학 등에 대해 강의한다. 그리고 유기전자소자의 주요 원리에 대해 설명한다.전선 / 대학원
반도체 노광기술은 Moore의 법칙으로 대변되는 반도체 소자 미세화를 주도하였으며, 현재 반도체 생산 비용의 과반을 차지한다. 최근 노광기술은 DUV 광원 사용을 넘어 파장 13.5nm 광원을 사용하는 EUV lithography로 발전하여 반도체 양산에 도입되었다. 노광기술은 광학뿐만 아니라 광파와 재료의 다양한 상호작용에 대한 이해를 필요로 한다. 본 강의에서는 관련된 광학의 기초를 제공하고 반도체 기술 개발 현장에서의 경험을 접목하여 반도체 노광기술 전반을 설명하고자 한다. 또한 EUV lithography 기술의 문제와 그 해결을 위한 최신 기술을 소개하고자 한다.전선 / 학사
종이 및 판지의 부가가치 증대를 위한 도공, 함침, 캘린더링 등 표면 및 특수 가공기술에 대한 소개, 각종 특수지의 제조 및 응용 기술, 인쇄 및 이미징 기술의 발전 및 지류와 이미징 기술의 상호관련성을 다룸. 제지도공공정에 사용되는 각종 안료, 바인더 및 첨가제의 특성과 이의 활용에 따른 도공층의 구조를 배우고, 블레이드 코팅, 에어나이프 코팅, 롤 코팅, 로드 코팅 및 최신 코팅기술의 발전 현황, 도공공정 및 운전성과 관련된 도공액의 유변특성을 배운다. 또 도공지의 건조 및 슈퍼캘린더링을 통한 광택도 개선기술 및 감열지와 감압지 등 특수지의 제조기법을 익힘. 또 옵셋 인쇄와 잉크젯 인쇄 등 각종 인쇄에 사용되는 원료의 특성과 공정 및 종이와의 상호 관련성을 강의한다.전선 / 대학원
반도체, MEMS와 같은 다양한 미세소자에서의 결정입 특성, 집합조직, 기계적 성질, 신뢰성 등의 문제에 대해 반도체회로(ULSI)에 사용되고 있는 알루미늄과 구리 배선을 중심으로 살펴본다.전선 / 학사
분자의 운동, 반응 및 동적인 전기화학에 관한 제문제를 기초적인 이론으로부터 응용에 이르기까지 다방면에 걸쳐 연구한다. 여기에는 기본적인 기체운동론, 이온운반과 분자확산을 다루는 분자의 운동, 간단한 반응의 속도론과 더불어 광화학반응, 자체촉매반응, 진동반응, 연쇄반응 등이 관련되는 좀 더 복잡한 반응의 속도론, 고체 표면에서의 흡착, 촉매현상 및 과전위, 분극현상, 폴라로그래피, 전지, 부식 등을 취급하는 동적인 전기화학에 관련된 전반적인 내용이 포함된다.전선 / 학사
본 교과목에서는 거의 한계에 다다른 CMOS 소자의 scaling 문제를 극복할 수 있는, 나노 기술을 응용한 새로운 소자 구조와 이들의 바이오 물질 등과의 상호작용에 대해 소개한다. 그리고 이러한 신소자들을 이해하고 연구하기 위한 기초적인 양자 및 소자 물리학, 그리고 이온전해질과 반도체 표면과의 관계에 대해 배운다. 전반부에서는 에너지 밴드, 유효질량, hole 등의 개념을 설명하기 위한 나노소자 물리의 기초를 다루고, 이를 토대로 다중 게이트 소자 같은 나노 FET 소자들의 최신 동향에 대해 소개한다. 후반부에서는 간단한 물리 및 나노소자 시뮬레이션 실습을 통해 학습한 양자 물리학에 대한 이해를 높이고, 직접 나노소자 및 전기-바이오 소자를 설계하고 그 특성을 분석해보는 기회를 갖는다.전선 / 대학원
이 강의는 발전된 반도체 소자를 이해하기 위한 반도체 물리를 강의한다. 높은 도핑 효과, 이종 접합에서의 밴드 라인업 이론 등을 소개한다. 이러한 물리이론을 바탕으로 MOSFET 소자와 바이폴러 소자의 물리, 모델링 그리고 특성에 대해서 강의한다. 이 소자들의 이상적이 아닌 특성과 스케이링 이론을 소개한다. 여기에는 MOSFET의 표면 양자화 효과와 이 효과가 끼치는 소자의 CV, 전달특성 등에 대해서 강의한다.전선 / 학사
우리나라 산업에서 중요한 위치를 차지하고 있는 CRT, 액정 디스플레이(LCD), 플라스마 디스플레이 (PDP), 전계발광디스플레이 (FED), 유기전기발광소자 (OLED) 등 디스플레이 재료, 소자 및 디스플레이 동작원리를 다룬다. 빛을 스위칭함으로서 작동하는 LCD에서는 액정의 분자구조와 배열상태, 이들의 광학적 특성, 액정과 전기장의 상호작용을 이해하고 빛이 액정막을 통과할 때 액정의 분자배열이 빛의 편광상태를 변화시키는 원리를 다룸으로써 액정디스플레이의 작동 원리를 이해한다. 전자빔 (CRT, FED)이나 자외선 (PDP)또는 전기를 흘려줌으로써 빛을 내는 유기물전기발광소자 (OLED)를 이해하기 위하여 사용되는 물질의 전자구조, 광학적성질, 전기적특성을 다루며 삼원색을 내는 물질의 구조와 발광효율을 증진시키기 위한 방법론을 다룬다. Display 구동방법과 제조공정도 취급한다.전선 / 대학원
본 강좌는 평판디스플레이 - 액정디스플레이 (liquid crystal display, LCD), 플라즈마 디스플레이 (plasma panel display, PDP), 유기발광다이오드 디스플레이 (organic light-emitting diode display, OLED), 전계방출디스플레이 (field emission display, FED)의 원리, 소자 특성, 공정 기술, 응용분야 등에 대해 설명한다. 주요 강의 내용은 액정의 전기광학적 특성, 박막트랜지스터 (비결정, 다결정 실리콘, 산화물 TFT) 기술, TFT-LCD 제작 기술, PDP와 OLED 재료의 물성과 소자의 동작 특성, PDP와 AMOLED 설계 및 제작 기술 등이다. 또한 차세대 디스플레이 기술인 3차원디스플레이와 플렉시블 디스플레이에 대해서도 다룬다.전선 / 대학원
이 과목은 핵분열 기반 원자력시스템 등 에너지시스템 공학 각 분야의 최신 연구동향과 관련된 다양한 주제를 다룬다.전선 / 대학원
동양미술사에 관련된 여러 주제 중 하나를 선정하여 심도있고 폭넓게 다룬다.교양 / 학사
본 교과목은 초급한문과 중급한문에 이은 고급 수준의 한문 명작에 대한 강좌이다. 초중급 한문 과정에서 다져진 실력을 바탕으로 고품격의 다양한 한문 문장을 정밀하게 읽어보는 과정이다. 초급한문과 중급한문에서는 주로 모범적이고 정격에 가까우며 비교적 평이한 문장을 다룬다. 그러다보니 유명하고 중요한 한문 문장임에도 초급자가 이해하기 쉽지 않다고 판단되면 배제되는 경우가 많았다. 본 강좌에서는 이러한 한문 문장을 경사자집(經史子集)의 다방면에 걸쳐 두루 선별하여 읽어보고자 한다. 본 교과목까지 수강하게 되면 정격적인 한문 문장뿐만 아니라 다소 파격적이고 난해한 문장에 대한 이해와 적응력을 높임으로써 한문을 깊이 배우거나 한문과 관련된 분야를 전공하려는 학문후속세대에게 자신감을 심어줄 수 있을 것이다.전선 / 학사
실크스크린과 스텐실 등 공판화의 원리와 특성의 이해하고 판을 만들어 찍는 과정 전반을 익힌다. 실크스크린 기법 이용되는 다양한 사례를 살펴보고 단색과 다색, 유성과 수성 실크스크린의 여러 기법을 습득하여 작품을 제작한다. 개괄적인 판화사 강의를 통해 판을 이용하여 복수의 작품을 생산하는 판화 기법의 고유한 특성을 이해한다. 수업은 참고 작품의 소개 및 강의, 시연과 실습, 개인별 작품 제작 및 검토로 구성된다.전선 / 대학원
이 강좌에서는 현 시점에서 본 반도체 소자의 각 세부 분야의 주요한 연구 주제에 대한 소개와 토의가 이뤄진다. 개설 학기에 따라 주제가 변하며, 이 강좌 내의 다른 주제에 대한 특강을 수강할 수 있다.전선 / 대학원
직접회로 전반에 관한 공정에 대한 과목으로서 화학적인 방법과 물리적인 방법으로 세분되어 기본원리에 의한 공정 분석 및 디자인을 다룬다. 모래로부터 시작해서 완성된 직접회로에 이르기까지의 흐름을 따르나 화학증착 및 플라즈마 공정에 중점을 두며 직접회로 공정에 특유한 도핑(doping) 및 lithography도 포함된다. 공정방법에 대한 자세한 기술보다는 각 공정에서의 기본 원리를 다루는 것이 특징이다.전선 / 학사
그래픽을 입체로 표현할 때 고려되어야 하는 원리와 기술들을 익혀 다양한 매체에 효과적인 입체 표현을 가능하게 하는 것을 목표로 한다. 모델링, 질감, 렌더링, 애니메이션과 같이 3D그래픽스를 구성하는 필수적인 기술들을 학습하고 매체에 최적화된 입체표현을 탐구한다.전선 / 대학원
본 강의에서는, 고분자재료, 이동현상, 고분자유변학 등의 기본지식을 활용하여 extrusion, injection molding, calendering, fiber spinning 등의 프로세싱을 해석하고 이해하며, 나아가 die, screw, mold 등의 설계, 최적공정조건의 결정 등을 위한 지식 습득에 중점을 둔다.전선 / 대학원
공기중에 존재하는 입자상 물질은 먼지, 미스트, 스모그, 안개 등 여러 가지 다른 형태로 이루어져 있다. 이러한 에어로졸은 시정, 기후 및 우리들의 건강과 생활양식에 영향을 미친다. 이 과목은 이러한 에어로졸의 특성, 성질, 측정방법을 강의하여 산업위생, 대기오염제어, 방사선 방호, 기타 환경과학 분야에 종사하면서 공기 중 입자상 물질을 측정하거나 연구, 제어하는 사람에게 기초적인 지식을 제공하고자 한다.전선 / 학사
반도체공정을 포함한 많은 산업 공정에서 필요한 얇은 액막의 형성 및 제어는 기계, 전기전자, 재료, 화학공학 등 다양한 분야의 지식이 모두 필요한 기술이지만, 특히 웨이퍼위에 감광액(포토 레지스트)을 도포하여 얇은 액막을 형성하는 것을 포함하는 일련의 과정은 유체역학적 분석 및 제어가 매우 중요하다. 본 강의에서는 이러한 웨이퍼 공정을 (i) 높은 점도를 가지는 액체의 관내 유동(동전기학 현상 포함), (ii) 노즐에서 나오는 제트유동, (iii) 수평면위에 수직으로 부딪히는 제트유동, (iv) 회전하는 평면위의 얇은 액막 거동으로 구분하고 각각의 유체역학적 이론 및 실용적인 이슈에 대한 학습을 한다. 또한 반도체 생산과정에서 중요한 이슈가 되는 미세입자의 거동에 대한 기초적인 내용도 학습한다.